ระบบการพิมพ์หินสามมิตินาโน

ตอบ: ระบบนี้ใช้เทคโนโลยีการพิมพ์หินสามมิติแบบไมโคร- (PμSL) และเทคโนโลยีการเขียนหินโดยตรงแบบไร้หน้ากาก- ซึ่งช่วยให้สามารถผลิตงาน 3 มิติที่มีความแม่นยำสูง-ระดับไมโคร/นาโน-ได้

ตอบ: ขึ้นอยู่กับรุ่น ความแม่นยำของการพิมพ์หินมีตั้งแต่:
20 μm
10 μm
5 μm
2 μm
สูงถึง 1 μm (PL-3D-PT)

ตอบ: ระบบรองรับวัสดุได้หลากหลาย ได้แก่:
เรซินที่ใช้งานได้
เรซินที่เข้ากันได้ทางชีวภาพ
เรซินวิศวกรรมอุณหภูมิสูง-
ไฮโดรเจล (เช่น GelMA)
สารละลายอลูมินาเซรามิก
สามารถใช้งานร่วมกับวัสดุแบบกำหนดเองได้ตามคำขอ

ก. ใช่. รุ่นที่เลือกรองรับการพิมพ์สารละลายเซรามิก ช่วยให้สามารถผลิตโครงเซรามิกที่มีรูพรุน โครงสร้างขัดแตะ และวัสดุเมตา

ก. ใช่. โมเดลขั้นสูง (PL-3D-PD / PL-3D-PT) รองรับการพิมพ์การจัดตำแหน่งที่ต่างกันหลายวัสดุพร้อมความแม่นยำในการจัดตำแหน่งการซ้อนทับสูงถึง 2.5 μm

ตอบ: ระบบรองรับรูปแบบ STL สำหรับการป้อนข้อมูลโมเดล 3 มิติ

ตอบ: ขึ้นอยู่กับรุ่น ขนาดการพิมพ์ที่รองรับสามารถเข้าถึงได้สูงสุด:
50 มม. × 50 มม. × 50 มม
มีการกำหนดค่า vat แบบกำหนดเองให้เลือก

ตอบ: การใช้งานทั่วไป ได้แก่:
การผลิตชิปไมโครฟลูอิดิก
อาร์เรย์ Microneedle
โครงวิศวกรรมเนื้อเยื่อ
วัสดุเมตา
เมตาเซอร์เฟส
อุปกรณ์เครื่องกลขนาดเล็ก-
มีการใช้กันอย่างแพร่หลายในการวิจัยทางชีวการแพทย์ วัสดุขั้นสูง และสาขาการผลิตขนาดเล็ก

ตอบ: อุณหภูมิ: 20–40 องศา
ความชื้น: RH < 60%
สภาพแวดล้อมห้องปฏิบัติการมาตรฐาน
ไม่จำเป็นต้องมีห้องคลีนรูมในการทำงานขั้นพื้นฐาน (ขึ้นอยู่กับความต้องการของการใช้งาน)

ตอบ: ระบบ Ploceus นำเสนอ:
การพิมพ์หิน-ความแม่นยำระดับการมองเห็น
ความละเอียดระดับไมครอน- (1–5 μm)
ความเสถียรของมิติที่สูงขึ้น
ความสามารถในการจัดตำแหน่งวัสดุหลาย-
มันถูกออกแบบมาสำหรับการผลิตระดับไมโคร/นาโนมากกว่าการสร้างต้นแบบทั่วไป