ขนาดคุณสมบัติขั้นต่ำ
มิติวิกฤตขั้นต่ำ (CD):
ขนาดคุณสมบัติขั้นต่ำหรือที่เรียกว่าขนาดฮาล์ฟพิตช์ เป็นหนึ่งในพารามิเตอร์ที่สำคัญที่สุดในการวัดประสิทธิภาพของเครื่องจักรการพิมพ์หิน
ในบรรดาค่าเหล่านั้น ค่าคงที่ที่แตกต่างกันไปในรูปแบบการพิมพ์หินที่แตกต่างกัน โดยที่ แลคือความยาวคลื่นของแหล่งกำเนิดแสงอินพุต และ NA คือรูรับแสงตัวเลขของระบบออปติคัลของเครื่องการพิมพ์หิน สำหรับค่าคงที่ ปัจจุบันเครื่องพิมพ์หิน DUV ของ ASML ในเนเธอร์แลนด์สามารถบรรลุค่าสูงสุดได้ประมาณ 0.25 ในขณะที่ EUV ยังคงอยู่ประมาณ 0.35 ยิ่งความยาวคลื่นของแหล่งกำเนิดแสงอินพุตน้อยลง กระบวนการถ่ายภาพพิมพ์หินจริงที่สามารถทำได้ก็จะยิ่งน้อยลงเท่านั้น สำหรับค่ารูรับแสงที่เป็นตัวเลข NA ขีดจำกัดบนของค่านี้โดยทั่วไปคือ 1.0 สำหรับโครงร่าง DUV ที่ไม่เปียก และประมาณ 1.35 สำหรับโครงร่าง DUV แบบเปียก เมื่อเปรียบเทียบกับการพิมพ์หินแบบไม่แช่ เครื่องพิมพ์หินแบบจุ่มจะใช้ของเหลวเพิ่มเติมสำหรับการหักเหระหว่างการพิมพ์หิน ซึ่งโดยปกติจะเป็นน้ำบริสุทธิ์ที่มีดัชนีการหักเหของแสงประมาณ 1.33 นี่เป็นเหตุผลว่าทำไมเครื่องพิมพ์หินแบบจุ่มจึงมี NA ที่ใหญ่กว่า
ความแม่นยำในการแกะสลัก
ความแม่นยำของการซ้อนทับ: ความแม่นยำในการจัดตำแหน่งระหว่างรูปแบบมาสก์และเวเฟอร์
ความหมายพื้นฐานหมายถึงความแม่นยำในการจัดแนวของรูปแบบระหว่างกระบวนการถ่ายภาพหินทั้งสองกระบวนการ หากความเบี่ยงเบนของการจัดตำแหน่งมากเกินไปจะส่งผลโดยตรงต่อผลผลิตของผลิตภัณฑ์
ความทนทานต่อการสัมผัส
Exposure Latitude: Exposure Latitude หรือที่เรียกว่า Exposure Margin เป็นหนึ่งในพารามิเตอร์ที่สำคัญของหน้าต่างกระบวนการ ระบบการรับแสงสามารถสร้างช่วงพลังงานการรับแสงที่ตรงตามข้อกำหนดเค้าโครงการออกแบบ โดยปกติจะกำหนดโดยช่วงการเลือกพลังงานการรับแสงภายใน ± 10% ของการเปลี่ยนแปลงค่า CD ที่ตรวจพบโดยผลการรับแสง หากความกว้างของเส้นของรูปแบบที่เปิดเผยเปลี่ยนแปลงค่อนข้างน้อยเมื่อโฟโตรีซิสต์เบี่ยงเบนไปจากปริมาณแสงที่เหมาะสม แสดงว่าโฟโตรีซิสต์มีความทนทานต่อการสัมผัสสูง ยิ่งความทนทานต่อการสัมผัสมากเท่าใด ความทนทานต่อการพัฒนาก็จะยิ่งมากขึ้นเท่านั้น
ความทนทานต่อแสงและคอนทราสต์ของภาพที่ฉายมีความสัมพันธ์กันอย่างใกล้ชิด หากขนาดคุณสมบัติของภาพที่ฉายมีคอนทราสต์ของภาพไม่ดี ก็จะไวต่อการเปลี่ยนแปลงปริมาณแสงมากเกินไป
