ตามการใช้งานที่แตกต่างกัน สามารถแบ่งออกเป็นประเภทที่ใช้สำหรับการผลิตชิป บรรจุภัณฑ์ และการผลิต LED
ตามแหล่งกำเนิดแสงที่แตกต่างกัน พวกเขาสามารถแบ่งออกเป็นแหล่งกำเนิดแสงอัลตราไวโอเลต (UV), แหล่งกำเนิดแสงอัลตราไวโอเลตลึก (DUV) และแหล่งกำเนิดแสงอัลตราไวโอเลตสุดขีด (EUV) ความยาวคลื่นของแหล่งกำเนิดแสงส่งผลต่อกระบวนการของเครื่องพิมพ์หิน
เครื่องพิมพ์หินอัลตราไวโอเลตสุดขีดได้นำแนวทางใหม่มาใช้เพื่อให้แหล่งกำเนิดแสงที่มีความยาวคลื่นสั้นลง วิธีการหลักที่ใช้ในปัจจุบันคือการฉายรังสีเลเซอร์เอ็กไซเมอร์ไปยังเครื่องกำเนิดหยดดีบุก ซึ่งเป็นโฟตอนขนาด 13.5 นาโนเมตรที่น่าตื่นเต้นเป็นแหล่งกำเนิดแสงสำหรับเครื่องพิมพ์หิน ปัจจุบัน ASML เป็นผู้ผลิตรายเดียวในโลกที่สามารถออกแบบและผลิตอุปกรณ์การพิมพ์หิน EUV
ตามวิธีการดำเนินงานที่แตกต่างกัน มันสามารถแบ่งออกเป็นการพิมพ์หินแบบสัมผัส การพิมพ์หินการเขียนโดยตรง และการพิมพ์หินการฉายภาพ
การพิมพ์แบบสัมผัส
ติดต่อพิมพ์
แผ่นมาส์กสัมผัสโดยตรงกับชั้นโฟโตรีซิสต์ ความละเอียดของลวดลายที่เปิดเผยนั้นเทียบได้กับลวดลายบนแผ่นมาส์ก และอุปกรณ์ก็เรียบง่าย ตามวิธีการใช้แรง หน้าสัมผัสสามารถแบ่งออกเป็นหน้าสัมผัสอ่อน หน้าสัมผัสแข็ง และหน้าสัมผัสสุญญากาศ
1ก. การสัมผัสแบบอ่อนหมายถึงกระบวนการติดวัสดุพิมพ์บนถาด (คล้ายกับวิธีการวางวัสดุพิมพ์ของเครื่องกระจายกาว) โดยมีหน้ากากปิดทับวัสดุพิมพ์
1ข. การสัมผัสแรงคือกระบวนการดันวัสดุพิมพ์ขึ้นด้านบนภายใต้ความดัน (ไนโตรเจน) เพื่อสัมผัสกับแผ่นหน้ากาก
1ค. หน้าสัมผัสสุญญากาศเป็นกระบวนการแยกอากาศระหว่างแผ่นมาส์กและพื้นผิวเพื่อให้แน่ใจว่ามีการยึดเกาะที่ดีขึ้น
คุณสมบัติ: คณะกรรมการหน้ากากการปนเปื้อนด้วยแสง; แผ่นมาส์กมีแนวโน้มที่จะเสียหายและมีอายุการใช้งานสั้น (ใช้เพียง 5 ถึง 25 ครั้ง) ข้อบกพร่องสะสมได้ง่าย
การพิมพ์หินใกล้เคียง
การพิมพ์ความใกล้ชิด
มีช่องว่างเล็กๆ (ประมาณ 2.5-25 μ m) ระหว่างแผ่นมาส์กและชั้นล่างสุดของสารตั้งต้นไวแสง สามารถหลีกเลี่ยงความเสียหายต่อแผ่นมาส์กที่เกิดจากการสัมผัสโดยตรงกับสารไวแสงได้อย่างมีประสิทธิภาพ ทำให้มาส์กและสารตั้งต้นไวแสงทนทานต่อการใช้งาน หน้ากากมีอายุการใช้งานยาวนาน (ซึ่งสามารถเพิ่มได้มากกว่า 10 เท่า) และมีข้อบกพร่องด้านกราฟิกน้อยลง การพิมพ์หินแบบใกล้เคียงถูกนำมาใช้กันอย่างแพร่หลายในกระบวนการถ่ายภาพด้วยแสงสมัยใหม่
