ภาพรวมผลิตภัณฑ์

ระบบปอกด้วยแสงสร้างขึ้นสำหรับเวเฟอร์ขนาด 6–12- นิ้วเท่านั้น- ซึ่งเหมาะอย่างยิ่งสำหรับงานยกโลหะ-ในงานทุกประเภท มาพร้อมกับการตั้งค่าแบบ 3 ห้อง (การแช่ การปอก และการทำความสะอาด) แต่หากคุณต้องการมากกว่านี้ เราสามารถปรับแต่งช่องหลายกระบวนการเพื่อให้ตรงกับขั้นตอนการทำงานของคุณได้
อะไรทำให้โดดเด่น? คุณลักษณะที่เป็นประโยชน์ เช่น การทำความร้อน NMP (ตั้งแต่อุณหภูมิห้องจนถึง 90 องศา ±2 องศา ) และการลอกกาวด้วยแรงดันสูง 30MPa-- อีกทั้งการรีไซเคิลของเหลวในกระบวนการ ซึ่งช่วยลดปริมาณขยะ เราไม่ได้ละทิ้งประสิทธิภาพหรือความปลอดภัยเช่นกัน การปอกด้วยอัลตราโซนิกทำให้สามารถกำจัดโลหะได้อย่างรวดเร็วและทั่วถึง ในขณะที่ระบบดับเพลิงอัตโนมัติที่มี-CO₂ CO₂ ในตัวช่วยให้การปฏิบัติงาน-ปราศจากความกังวล

ข้อดี

ความเข้ากันได้ของเวเฟอร์แบบกว้างและกระบวนการ

รองรับเวเฟอร์ขนาด 6–12- นิ้ว ปรับให้เข้ากับกระบวนการยกสำหรับอุปกรณ์ไฟฟ้า ตัวกรอง MEMS ฯลฯ

ประสิทธิภาพการปอกที่มีประสิทธิภาพ

ผสมผสานการควบคุมอุณหภูมิ NMP, การลอกกาวด้วยแรงดันสูง 30MPa- และการปอกด้วยอัลตราโซนิกเพื่อการกำจัดโลหะอย่างทั่วถึง

การเพิ่มประสิทธิภาพต้นทุนและความปลอดภัย

กระบวนการรีไซเคิลของเหลว (การใช้ซ้ำแบบกรอง) ช่วยลดต้นทุนการดำเนินงาน ระบบดับเพลิงอัตโนมัติ CO₂ ช่วยให้มั่นใจในการทำงานอย่างปลอดภัย

การกำหนดค่าที่ยืดหยุ่น

การตั้งค่าห้องมาตรฐาน 3- + ช่องหลายกระบวนการเสริม ซึ่งตรงกับความต้องการในการผลิตที่หลากหลาย

การใช้งาน

สาขาหลัก:อุปกรณ์ไฟฟ้า ตัวกรอง MEMS (ระบบเครื่องกลไฟฟ้าขนาดเล็ก-) และสาขาอื่นๆ ที่เกี่ยวข้องกับเซมิคอนดักเตอร์-

กระบวนการสำคัญ:การยกโลหะ- (การเอาชั้นโลหะบางชั้นออกด้วยการประมวลผลแบบเปียก) เพื่อสร้างโครงสร้างอุปกรณ์

พารามิเตอร์

ข้อมูลจำเพาะ	รายละเอียด
ขนาดเวเฟอร์	6-12 นิ้ว
การกำหนดค่ามาตรฐาน	3 ห้อง (แช่ ปอก ทำความสะอาด)
การกำหนดค่าเพิ่มเติม	ช่องกระบวนการหลายช่อง (ปรับแต่งได้)
พารามิเตอร์การทำความร้อน NMP	อุณหภูมิห้อง ~ 90 องศา ± 2 องศา
การลอกกาวด้วยแรงดันสูง-	แรงดันสูงสุด:30MPa
ฟังก์ชั่นที่สำคัญ	- ดำเนินการรีไซเคิลของเหลว (นำกลับมาใช้ใหม่ที่ผ่านการกรอง) - ฟังก์ชันการลอกแบบอัลตราโซนิก
ระบบความปลอดภัย	ระบบดับเพลิงอัตโนมัติ CO2
ฟิลด์แอปพลิเคชัน	อุปกรณ์ไฟฟ้า ตัวกรอง MEMS ฯลฯ
กระบวนการหลัก	ปิดการยกโลหะ-(การปอกชั้นโลหะแบบเปียก)