การพิมพ์แบบฉายภาพ
เช่นเดียวกับการถ่ายภาพด้วยฟิล์ม โดยการกดปุ่มชัตเตอร์ แสงจะถูกฉายลงบนฟิล์มผ่านเลนส์และเปิดรับแสง หลังจากนั้น จะได้ภาพโดยการแช่ฟิล์มในสารละลายที่กำลังพัฒนาผ่านการ "ล้างด้วยภาพถ่าย" การพิมพ์หินแบบฉายภาพเป็นเทคโนโลยีการพิมพ์หินกระแสหลักสำหรับวงจรรวม เนื่องจากมีประสิทธิภาพสูงและไม่-มีข้อได้เปรียบในการทำลายล้าง
3ก. การสแกนการพิมพ์โครงการ
การวิจัยเริ่มขึ้นในช่วงปลายทศวรรษ 1970 และต้นทศวรรษ 1980 ขนาดของหน้ากากและลวดลายในเครื่องการพิมพ์หินนี้คือ 1:1 ซึ่งหมายความว่าขนาดของหน้ากากจะเท่ากับขนาดของลวดลายบนเครื่องฉายแสง สาเหตุที่เรียกว่าการสแกนก็เนื่องมาจากแสงถูกส่งผ่านช่องแคบๆ ไปยังวัสดุพิมพ์ ซึ่งปกติแล้วจะเผยให้เห็นเส้นหลายเส้นในคราวเดียว ต้องย้ายวัสดุพิมพ์เพื่อให้ทุกพื้นที่ได้รับพลังงานแสง
คุณลักษณะ: โหนดกระบวนการอยู่ในช่วงตั้งแต่ 180 นาโนเมตรถึง 130 นาโนเมตร อัตราส่วนแผ่นมาส์ก 1:1 การเปิดรับขนาดเต็ม-
3บี การพิมพ์โปรเจ็กต์ซ้ำแบบก้าวกระโดด (หรือที่เรียกว่า Stepper)
การวิจัยเริ่มขึ้นในช่วงปลายทศวรรษ 1980 และ 1990 โดยใช้ระบบเลนส์เพื่อฉายลวดลายจากหน้ากากลงบนพื้นผิวทีละชิ้นบนพื้นที่ขนาดเล็ก หลังจากการเผยผิวในพื้นที่เล็กๆ แต่ละครั้ง วัสดุพิมพ์จะย้ายไปยังตำแหน่งถัดไปจนกว่าวัสดุพิมพ์ทั้งหมดจะถูกสัมผัส พื้นที่โล่งคือ 'ช็อต' เนื่องจากฉายผ่านระบบเลนส์ โดยทั่วไปจะใช้เพลต 5 เท่าเมื่อใช้แสงอัลตราไวโอเลต 365 นาโนเมตร ซึ่งหมายความว่าขนาดของรูปแบบบนเพลตมาส์กจะเป็น 5 เท่าของขนาดโฟโตรีซิสต์จริง ดังนั้นจึงสามารถออกแบบรูปแบบที่ซับซ้อนมากขึ้นบนแผ่นมาส์กได้ แต่จะเพิ่มความยากในการผลิตระบบปริซึม
3ค. ขั้นตอนการสแกน การพิมพ์โปรเจ็กต์ (หรือที่เรียกว่า Scanner)
ตั้งแต่ช่วงปลายทศวรรษ 1990 เป็นต้นมา เครื่องจักรประเภทนี้โดยทั่วไปจะใช้ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ระดับสูง-สำหรับกระบวนการที่มีเส้นผ่านศูนย์กลางน้อยกว่าหรือเท่ากับ 0.18 μm ในระหว่างกระบวนการเปิดรับแสง หน้ากากจะเคลื่อนที่ไปในทิศทางเดียวในขณะที่เวเฟอร์จะเคลื่อนที่พร้อมกันในทิศทางที่ตั้งฉากกับมัน
คุณสมบัติ: เพิ่มขอบเขตการมองเห็นสำหรับการรับแสงแต่ละครั้ง ให้การชดเชยสำหรับพื้นผิวที่ไม่สม่ำเสมอของเวเฟอร์ซิลิคอน ปรับปรุงความสม่ำเสมอของขนาดของเวเฟอร์ซิลิคอนทั้งหมด อย่างไรก็ตาม เนื่องจากความจำเป็นในการเคลื่อนที่แบบย้อนกลับ ความต้องการด้านความแม่นยำของระบบกลไกจึงเพิ่มขึ้น สแกนเนอร์มักจะมีประสิทธิภาพการผลิตสูงกว่าเครื่องสแกนอื่นๆ และการออกแบบและการผลิตก็ซับซ้อนมาก ค่าใช้จ่ายในการซื้อและบำรุงรักษาเครื่องสแกนก็สูงเช่นกัน
การพิมพ์หินสองด้าน-ที่มีความแม่นยำสูง
ส่วนใหญ่ใช้สำหรับการวิจัยและการผลิตวงจรรวมขนาดเล็กและขนาดกลาง- ส่วนประกอบเซมิคอนดักเตอร์ อุปกรณ์ออปโตอิเล็กทรอนิกส์ อุปกรณ์คลื่นเสียงพื้นผิว วงจรฟิล์มบาง และอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์กำลัง
เครื่องพิมพ์หินสอง-ประกอบด้วยระบบควบคุมการเคลื่อนไหว ระบบประมวลผลภาพ ซอฟต์แวร์ระบบ และหน่วยควบคุมการประมวลผลข้อมูล I/O
การพิมพ์หินด้านเดียว-ที่มีความแม่นยำสูง
เครื่องพิมพ์หินที่มีความแม่นยำสูง-พัฒนาขึ้นสำหรับวิทยาลัย มหาวิทยาลัย องค์กร และสถาบันวิจัยต่างๆ โดยพิจารณาจากลักษณะของการใช้งานเครื่องพิมพ์หิน ใช้สำหรับการวิจัยและการผลิตวงจรรวมขนาดเล็กและขนาดกลาง- ส่วนประกอบเซมิคอนดักเตอร์ อุปกรณ์ออปโตอิเล็กทรอนิกส์ และอุปกรณ์คลื่นเสียงบนพื้นผิว
ประกอบด้วยโต๊ะทำงานสำหรับการจัดตำแหน่งที่มีความแม่นยำสูง- ระบบแสดงภาพด้วยกล้องจุลทรรศน์ CCD ช่องมองภาพแบบสองตาแยกกัน หัวรับแสง ระบบนิวแมติก ระบบท่อสุญญากาศ ปั๊มสุญญากาศไร้น้ำมันที่เชื่อมต่อโดยตรง- โต๊ะทำงานป้องกันการสั่นสะเทือน และกล่องอุปกรณ์เสริม
แก้ไขปัญหาการวางแนวที่ไม่ตรงที่เกิดจากการไม่สามารถแยกเพลตได้เนื่องจากวัสดุพิมพ์ที่ไม่เป็นวงกลม{0}} ชิ้นส่วน และพื้นผิวของวัสดุพิมพ์ไม่เรียบ
